简述膜厚仪的测量原理和应用领域
膜厚仪是一种专业膜厚测量分析检测工具,而且主要应用在一些重要的金银首饰加工、电镀镀层、科学研究等行业中进行分析测量使用。因此对于这些机构来说拥有一台专业的膜厚仪很重要,也能给各企业带来更多实用性的帮助,那么在选购膜厚仪是如何实现测厚的呢?膜厚仪的测厚原理和应用领域是什么呢?下面小编介绍给大家:
一、膜厚仪的特性:
若产生X-射线荧光是由于转移一个电子进入K轨道,一个K轨道上的电子已事先被游离,另一个电子即代替他的地位,此称之为K辐射。不同的能阶转换出不同的能量,如Kα辐射是电子由L轨道跳至K轨道的一种辐射,而Kβ辐射是电子从M轨道跳至K轨道的一种辐射,其间是有区别的。若X-射线荧光是一个电子跳入L的空轨域,此种辐射称为L辐射。同样的L辐射可划分为Lα辐射,此是由M轨道之电子跳入L轨道及Lβ辐射,此是由N轨道之电子跳入L轨道中。由于Kβ辐射能量约为Kα的11%,而Lβ辐射能量较Lα大约20%,所以以能量的观点Lα及Lβ是很容易区分的。
二、膜厚仪分析检测的原理
1、首先对我们要了解XRF如何测量元素成分含量的:
一个元素的成分计算公式可以简单用下面的公式表示:F▪I=C,(这里C是样品含量,F是光谱中此元素比例系数,I是此元素在光谱中的激发强度),首先标样中已知C(此处用百分比表示),将此标样放入光谱,按着测试条件开X射线激发标样,此时得到一个I的值,C/I=F(这样就能计算出此元素的含量轻度比列系数)。
之后,待测样品放入光谱,同样条件用X射线激发样品,获得待测样品的I值,用这个I值乘以之前得到的F值,F▪I=C 就能计算出此样品的含量C的值,这就是XRF测量元素含量的基本原理。
2、膜厚仪分析检测膜厚原理:
同理,Th=F▪I (这里Th是厚度,单位微米或其他长度单位)
首先也是用标样来标定,求出此样品的某元素镀层厚度强度比F。
测试待测样品时,用待测样品的镀层元素激发的I值乘以之前得到的F值,F▪I=Th这样就能计算出待测样品的此元素镀层厚度值。
三、膜厚仪的应用领域
1、PCB电路板
现在有许多PCB表面处理工艺,常见的是热风整平、有机涂覆OSP、化学镀镍/浸金、浸银、浸锡和电镀镍金等工艺。膜厚仪测量PCB是产品达到优等质量标准的必要手段。为使产品国际化,我国出口商品和涉外项目中,对PCB镀层厚度有了明确要求。
2、五金电镀
五金电镀行业同样需要膜厚仪来分析其金属镀层的厚度和金属镀液的浓度和含量,以是产品能够达到标准
3、珠宝首饰
珠宝首饰行业使用膜厚仪比较广泛,因为膜厚仪还可以分析检测珠宝首饰的金属含量。同样如果珠宝首饰需要镀层的话,也可以使用到膜厚仪来分析检测镀层的厚度。
上面介绍了三大膜厚仪的分析检测到应用领域,膜厚仪还可以应用于LED、半导体、卫浴洁具、汽车配件领域等等。膜厚仪是一款测量精确度非常高的精密仪器设备,除了能进行各种精密的测量外还具备了高度的识别技术,能有效的识别出物体表面电镀层所使用的物质种类,因此在使用领域上很广泛得到各界的认可。以上就是膜厚仪的分析检测原理及应用领域的介绍
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