国产合金分析仪产品介绍及服务
合金分析仪是用来分析金属成份合含量的精密分析仪，近年来国内众多厂商在寻求自动化检测设备，值得信赖的国产合金分析仪成为了炙手可热的产品。国产合金分析仪市场需求会越来越大，正是因为越来越多的行业领域需要用到品质优良的合金分析仪，它可以帮助生产制造商精确快速分析检测各种金属材料合金元素的成分和含量，伴随合金分析仪新技术的发展和分析领域的日益扩大，品质优良的合金分析仪未来市场需求潜力巨大。那下面来介绍合金分析仪的在线检测
一、产品介绍及技术指标
1.产品名称及型号： X射线荧光光谱分析光谱仪(合金分析仪) – EDX-1050
2.制造商：深圳市善时仪器有限公司
3.产品图片：
X射线合金分析仪 型号EDX-1050
4. 工作条件
● 工作温度：15-30℃
● 相对湿度：≤80%
● 电 源：AC: 220V ±5V
● 功 率：150W + 550W
5. 技术性能及指标:
● 采用真空样品腔；
● 元素分析范围从钠(Na)到铀(U)；
● 一次性可同时分析25个元素；
● 元素含量分析范围为1ppm到99.99%；
● 测量时间：40-120秒；
● 主含量多次测量重复性可达0.1％；
● 探测器能量分辨率为125±5eV；
● 温度适应范围为15℃至30℃；
● 电源：交流220V±5V（建议配置交流净化稳压电源。）；
二、产品配置、功能、分析精度及稳定性
（一）产品配置：
1.硬件：主机壹台，含下列主要部件：
(1) X光管（英国牛津OXFORD）；
(2) 电制冷半导体探测器（SDD）；
(3) 高压电源（美国SPELLMAN）；
(4) 准直器；
(5) 控制系统；
(6) 滤光片；
(7) 样品台；
(8) 样品腔 195mm*195mm×50mm ；
(9) 仪器尺寸 520*390*360mm
(10）真空泵/SMC真空电磁阀/真空压力表等
2. 软件：善时X荧光光谱仪成份分析软件V6.0
3. 计算机一台：联想品牌
4.打印机一台。
注：设备需要配备稳压电源，需另计。
（二）功能、 分析精度及稳定性：
铜合金成份分析：
同时可扩展分析铝合金，铁合金，铅锡合金等其他合金分析，需要时需做必要的技术交流。
暂时不能分析元素H, He, Li, Be, B, C, N, O；
合金分析仪分析精度及稳定性：
1） Cu, Zn, Fe, Ni, Pb, Mn, Ti, W, Au, Ag, Sn等重金属含量的检测限达20～30ppm，对这些金属测试分析稳定的读取允许差值本仪器已达到下列标准：
A. 检测含量大于5%的元素稳定的测试读取差值小于0.1%
B. 检测含量在0.5～5%的元素稳定的测试读取差值小于0.05%
C. 检测含量在0.1～0.5%的元素稳定的测试读取差值小于0.03%
D. 检测含量低于0.1%的元素测试读取变化率小于10%
2） Mg，Al, P, S, Si, As等金属成份含量的检测限达50ppm，对这些金属测试分析稳定的读取允许差值本仪器已达到下列标准：
A. 检测含量大于5%的元素稳定的测试读取差值小于0.1%
B. 检测含量在0.5～5%的元素稳定的测试读取差值小于0.05%
C. 检测含量在0.1～0.5%的元素稳定的测试读取差值小于0.03%
D. 检测含量低于0.1%的元素测试读取变化率小于15%
3）. 钢铁材料中除C，S外的元素分析；
4）. 可以检测分析样品状态：液体，固体，粉末。
三、产品优势及软件说明
（一）. 产品优势
1． 无损检测，一次性购买标样可一直使用
2． 可检测固体、液体、粉末状态材料
3． 能检测分析多达60多种元素，一次检测可显示25种元素，针对铜、铁、锌、不锈钢等任意基体做成份分析
4． 运行及维护成本低、无易损易耗品，对使用环境相对要求低
5． 可进行未知样品扫描、无标样定性，半定量分析
6． 操作简单、易学易懂、准确无损、高品质、高性能、高稳定性，快速出检测结果（40-120秒）
7． 可针对客户个性化要求量身定做辅助分析配置硬件
8． 软件终身免费升级
9． 独有专利众多，与国外发达国家之同类技术
10．使用安心无忧，售后服务响应时间24H以内，提供全方位保姆式服务
（二）软件说明
1．仪器工作原理说明
XRF就是X射线荧光光谱分析仪(X Ray Fluorescence Spectrometer) 。 人们通常把X射线照射在物质上而产生的次级X射线叫X射线荧光 ，而把用来照射的X射线叫原级X射线。
当能量高于原子内层电子结合能的高能X射线与原子发生碰撞时，驱逐一个内层电子而出现一个空穴，使整个原子体系处于不稳定的激发态，激发态原子寿命约为10-12~10-14S，然后自发地由能量高的状态跃迁到能量低的状态。
当较外层的电子跃入内层空穴所释放的能量不在原子内被吸收，而是以辐射形式放出，便产生X射线荧光(特征X射线)，其能量等于两能级之间的能量差。
特征X射线荧光产生： 碰撞→跃迁↑(高) →空穴→跃迁↓(低)
不同元素发出的特征X射线荧光能量和波长各不相同，因此通过对其的能量或者波长的测量即可知道它是何种元素发出的，进行元素的定性分析。线强度跟这元素在样品中的含量有关，因此测出它的强度就能进行元素的定量分析。
通过实验验证，在一定范围内，镀层越厚，测试的X荧光的强度越大；但当镀层厚度达到一定值时，测试的X荧光的强度将不再变化。换而言之，就是镀层厚度测试是有限的，过厚的镀层样品将被视为无限厚。
由于X射线具有穿透性，多镀层分析时，每一层的特征X射线在出射过程中，都会互相产生干扰。随着镀层层数的增加，越靠近内层的镀层的检测误差越大；同时外层镀层由于受到内层镀层的影响，测试精度也将大大下降。为解决多镀层的影响，在实际应用中，多采用实际相近的镀层样品进行比较测量（即采用标准曲线法进行对比测试的方法）来减少各层之间干扰所引起的测试精度问题。
EDX－1050型号光谱仪采用了目前国际上高水平的软件算法，基本参数法（FP）。善时公司经过近10年的开发和完善，使软件已经具备了完善的使用内容外，还具备强大的教学和科研开发功能。
EDX-1050型号光谱仪软件算法的主要处理方法
1) Smoothing谱线光滑处理
2) Escape Peak Removal 逃逸峰去除
3) Sum Peak Removal 叠加峰去除
5) Blank Removal 空峰位去除
7) Peak Integration 图谱整合
8) Peak Overlap Factor Method 波峰叠加因素方法
9) Gaussian Deconvolution 高斯反卷积处理
10) Reference Deconvolution 基准反卷积处理
软件开发的过程中我们参考了如下文献（FP References
(a) “Principles and Practice of X-ray Spectrometric Analysis,” 2nd Edition, by E.P. Bertin, Plenum Press, New York, NY (1975).
(b) “Principles of Quantitative X-Ray Fluorescence Analysis,” by R. Tertian and F. Claisse, Heyden & Son Ltd., London, UK (1982).
(c) “Handbook of X-Ray Spectrometry: Methods and Techniques,” eds. R.E. van Grieken and A.A. Markowicz, Marcel Dekker, Inc., New York (1993).
(d) “An Analytical Algorithm for Calculation of Spectral Distributions of X-Ray Tubes for Quantitative X-Ray Fluorescence Analysis,” P.A. Pella, L. Feng and J.A. Small, X-Ray Spectrometry 14 (3), 125-135 (1985).
(e) “Addition of M- and L-Series Lines to NIST Algorithm for Calculation of X-Ray Tube Output Spectral Distributions,” P.A. Pella, L. Feng and J.A. Small, X-Ray Spectrometry 20, 109-110 (1991).
(f) “Quantification of Continuous and Characteristic Tube Spectra for Fundamental Parameter Analysis,” H. Ebel, M.F. Ebel, J. Wernisch, Ch. Poehn and H. Wiederschwinger, X-Ray Spectrometry 18, 89-100 (1989).
(g) “An Algorithm for the Description of White and Characteristic Tube Spectra (11 ≤ Z ≤ 83, 10keV ≤ E0 ≤ 50keV),” H. Ebel, H. Wiederschwinger and J. Wernisch, Advances in X-Ray Analysis, 35, 721-726 (1992).
(h) “Spectra of X-Ray Tubes with Transmission Anodes for Fundamental Parameter Analysis,” H. Ebel, M.F. Ebel, Ch. Poehn and B. Schoβmann, Advances in X-Ray Analysis, 35, 721-726 (1992).
(i) “Comparison of Various Descriptions of X-Ray Tube Spectra,” B. Schoβmann, H. Wiederschwinger, H. Ebel and J. Wernisch, Advances in X-Ray Analysis, 39, 127-135 (1992).
(j) “Relative Intensities of K, L and M Shell X-ray Lines,” T.P. Schreiber & A.M. Wims, X-Ray Spectrometry 11(2), 42 (1982).
(k) “Calculation of X-ray Fluorescence Cross Sections for K and L Shells,” M.O. Krause, E.Ricci, C.J. Sparks and C.W. Nestor, Adv. X-ray Analysis, 21, 119 (1978).
(l) X-Ray Data Booklet, Center for X-ray Optics, ed. D. Vaughan, LBL, University of California, Berkeley, CA 94720 (1986).
(m) “Revised Tables of Mass Attenuation Coefficients,” Corporation Scientifique Claisse Inc., 7, 1301 (1977).
(n) "Atomic Radiative and Radiationless Yields for K and L shells," M.O. Krause, J. Phys. Chem. Reference Data 8 (2), 307-327 (1979).
(o) “The Electron Microprobe,” eds. T.D. McKinley, K.F.J. Heinrich and D.B. Wittry, Wiley, New York (1966).
(p) “Compilation of X-Ray Cross Sections,” UCRL-50174 Sec II, Rev. 1, Lawrence Radiation Lab., University of California, Livermore, CA (1969).
(q) “X-ray Interactions: Photoabsorption, Scattering, Transmission, and Reflection at E = 50-30,000 eV, Z = 1-92,” B.L. Henke, E.M. Gullikson and J.C. Davis, Atomic Data and Nuclear Tables, 54, 181-342 (1993).
(r) “Reevaluation of X-Ray Atomic Energy Levels,” J.A. Bearden and A.F. Burr, Rev. Mod. Phys., 39 (1), 125-142 (1967).
(s) “Fluorescence Yields, ώk (12 ≤ Z ≤ 42) and ώl3 (38 ≤ Z ≤ 79), from a Comparison of Literature and Experiments (SEM),” W. Hanke, J. Wernisch and C. Pohn, X-Ray Spectrometry 14 (1),43 (1985).
(t) “Least-Squares Fits of Fundamental Parameters for Quantitative X-Ray Analysis as a Function of Z (11 ≤ Z ≤ 83) and E (1 ≤ E ≤ 50 keV),” C. Poehn, J. Wernisch and W. Hanke, X-Ray Spectrometry 14 (3),120 (1985).
(u) “Calculation of X-Ray Fluorescence Intensities from Bulk and Multilayer Samples,” D.K.G. de Boer, X-Ray Spectrometry 19, 145-154 (1990).
(v) “Theoretical Formulas for Film Thickness Measurement by Means of Fluorescence X-Rays,” T. Shiraiwa and N. Fujino, Adv. X-Ray Analysis, 12, 446 (1969).
(w) “X-Ray Fluorescence Analysis of Multiple-Layer Films,” M. Mantler, Analytica Chimica Acta, 188, 25-35 (1986).
(x) “General Approach for Quantitative Energy Dispersive X-ray Fluorescence Analysis Based on Fundamental Parameters,” F. He and P.J. Van Espen, Anal. Chem., 63, 2237-2244 (1991).
(y) “Quantitative X-Ray Fluorescence Analysis of Single- and Multi-Layer Thin Films,” Thin Solid Films 157, 283 (1988).
(z) “Fundamental-Parameter Method for Quantitative Elemental Analysis with Monochromatic X-Ray Sources,” presented at 25th Annual Denver X-ray Conference, Denver, Colorado (1976).
3．软件界面
1）软件界面
图谱可以任意调整大小，便于在研发过程中盲样分析时对各种元素的寻找。
(2)参数设定界面
包含了尽量多的参数设定窗口，可以方便使用人员，尤其是研发人员对软件和分析结果状态的了解。
4. 稳定性分析数据
四、产品保修及售后服务
1. 协助做好安装场地、环境的准备工作、指导并参与设备的安装、测试、诊断及各项工作。
2. 对客户方操作人员进行培训。
3. 安装、调试、验收、培训及技术服务均为免费在用户方现场对操作人员进行培训。
4. 整机保修一年，终身维修,保修期从我司验收合格后并正式投入使用之日起计算。
5. 免费提供软件升级
6. 保修期内，提供全天 24小时（包含节假日）技术支持及现场维护服务。在接到设备故障报修后，提供远程故障解决方案（1小时内）, 如有需要，24小时内派人上门维修和排除故障。
如此可以看得出值得信赖的国产合金分析仪产品身上具备了很多典型的特点，国产合金分析仪主要表现为它的核心技术非常成熟对测试分析的结果非常准确，同时它有着在高频运行环境下稳定高效且便于操作有助于提升效率的特点，另外不得不说值得信赖的元素分析仪也有着价格有诚意且售后完善的典型特点。
